반도체를위한 PSA 산소 발생기

반도체 제조의 가스 순도 및 안정성에 대한 매우 높은 요구 사항의 맥락에서 PSA 산소 발생기는 압력 스윙 흡착 (PSA) 기술을 사용하고, 공기를 원료로 사용하며, 상이한 압력 하에서 흡착제의 가스 흡착 용량의 차이를 활용하며, 상이하게 별도의 하이 컨 테이프 산소를 사용합니다. 산소 발생기는 정확한 순도 및 안정적인 흐름으로 산소를 출력하여 웨이퍼 처리에서 칩 포장에 이르기까지 반도체 제조의 모든 측면에서 산소에 대한 엄격한 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다. 이 장비는 높은 수준의 자동화를 가지고 있으며 오랫동안 안정적으로 작동하고 운영 및 유지 보수 비용을 줄이며 다양한 매개 변수를 유연하게 조정하여 반도체 제조업체를위한 신뢰할 수 있고 효율적이며 경제적 인 산소 공급 솔루션을 만들어 반도체 산업이 생산 효율성 및 제품 품질을 향상시킬 수 있습니다.

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설명

기술적인 매개 변수

반도체 산업에 PSA 산소 발생기가 필요한 이유는 무엇입니까?

고급 가스 공급 :반도체 제조는 가스 순도에 대한 엄격한 요구 사항이 있으며, 고순도 산소는 리소그래피, 청소 및 기타 링크에 없어서는 안될 것입니다. 압력 스윙 흡착 기술의 도움으로 PSA 산소 발생기는 95%± 3%의 순도로 산소 층 형성 및 웨이퍼 청소의 요구 사항을 충족시키고 전통적인 가스 실린더 산소 공급의 불순물 오염 위험을 피합니다.
프로세스 안정성 보장 :반도체 생산 라인에는 지속적이고 안정적인 가스 공급이 필요합니다. PSA 산소 생성기는 이중 흡착 타워를 사용하여 교대로 작동하며 PLC 지능형 제어를 통해 24- 시간을 중단되지 않은 산소 공급을 달성하고 수동 병 교체로 인한 생산 중단을 피하고 박막 증착 및 에칭과 같은 공기압에 민감한 공정에 적응할 수 있습니다.
비용 절감 및 공간 최적화 :액체 산소 저장 탱크 및 고압 가스 실린더와 비교하여 PSA 산소 발생기는 현장 산소를 생성하여 운송 및 저장 비용을 크게 줄입니다. 그것은 작은 발자국을 가지고 있으며 모듈 식 확장을 지원하며, 이는 반도체 공장의 깨끗한 워크샵에서 공간 활용을 극대화해야 할 요구를 충족시킵니다. 장기 사용 비용은 기존 방법보다 약 20% 낮습니다.
특수 프로세스에 적응 :고급 공정에서 일부 특수 공정에는 산소 농도의 정확한 제어가 필요합니다. PSA 산소 발생기는 3D NAND 플래시 메모리 제조의 특수 공정 요구 사항을 충족시키기 위해 흡착 압력 및 분자 체 비율을 조정하여 산소 출력 순도 (95%-99. 9%)를 유연하게 조정할 수 있습니다.
환경 친화적이고 유지하기 쉬운 :PSA 기술에는 화학 시약이 필요하지 않으며 산소 생산 공정은 반도체 산업의 환경 보호 표준을 충족시키는 유해 물질을 방출하지 않습니다. 이 장비는 식품 등급의 스테인리스 스틸과 자체 청소 분자 체를 사용하며 최대 3-5 연도의 유지 보수주기가 높으며 고소도 웨이퍼 제조 환경에 적합합니다.

무료 상담

Why Does The Semiconductor Industry Need PSA Oxygen Generators?

범주	매개 변수 세부 사항
산소 순도	93% -99. 5% (ULPA 여과 시스템은 사용자 정의 할 수 있습니다.
출력 압력	0. 5-1. 5MPA (조절 가능, 반도체 장비의 공기 흡기 표준에 적응)
흐름 범위	10-5000 nm³/h (여러 단위의 병렬 확장 지원)
이슬점	-70 학위보다 작거나 동일합니다 (수증기가 공정 환경 오염을 방지하기 위해)
에너지 효율	0.
소음 수준	65dB 이하 (낮은 진동 구조 + 방음 쉘, 클래스 1000 클린 룸 표준에 따라)

PSA 산소 발생기의 핵심 장점

99% PSA Oxygen Generator For Gold Mining

매우 높은 순도 보증
이중층 분자 체 층 및 촉매 산화 단위는 탄화수소 및 CO₂와 같은 불순물을 깊이 제거하는데 사용되며, 산소 순도는 99.5%이상에 도달하여 반 F20 표준을 충족시킨다. 내장 실시간 온라인 분석기, 프로세스 안정성을 보장하기 위해 공장 SCADA 시스템에 대한 데이터 동기화.

지능형 제어 및 중복 설계
통합 PLC+HMI 제어 시스템은 원격 모니터링, 결함 자체 진단 및 비상 전환 (이중 타워 중복 흡착)을 지원합니다. 자동 압력 보상 기술 반도체 장비의 순간 높은 유량 수요에 대처합니다.

저탄소 에너지 절약 솔루션
VPSA (진공 압력 스윙 흡착) 시너지 기술은 에너지 소비를 줄여 기존 PSA와 비교하여 15% -20% 에너지를 절약하여 워크샵 열 부하를 줄이기 위해 폐기물 열 회수 모듈을 절약합니다.

깨끗한 실내 호환성
금속 이온 오염을 피하기위한 모든 스테인레스 스틸 유량 채널 + 나노 코팅; 제로 누설 밀봉 설계, ISO 8573-1 class 0 인증을 통과했습니다.

PSA 산소 식물 유형

모듈 식 장비

트윈 타워 장비

컨테이너화 된 장비

				NTK95 시리즈 PSA 산소 발생기 선택
아니요.	모델	용량 (NM3/HR)	청정	전력 소비 1NM3 산소 생성 (kw/h)	병의 수 12 시간 (PC)에 플러드	운영자가 필요했습니다
1	ntk 95-5 p	5	95%+-1%	3.54	10	2
2	ntk 95-10 p	10	95%+-1%	2.52	20	2
3	ntk 95-15 p	15	95%+-1%	2.31	30	2
4	ntk 95-20 p	20	95%+-1%	2.13	40	2
5	ntk 95-25 p	25	95%+-1%	2.01	50	2
6	ntk 95-30 p	30	95%+-1%	2.09	60	2
7	ntk 95-40 p	40	95%+-1%	1.81	80	2
8	ntk 95-50 p	50	95%+-1%	1.94	100	2
9	ntk 95-60 p	60	95%+-1%	1.62	120	2
10	ntk 95-80 p	80	95%+-1%	1.92	160	2
11	ntk 95-100 p	100	95%+-1%	1.83	200	2

자주 묻는 질문(FAQ)

1. 산소 순도는 얼마나 높을 수 있으며, 반도체 제조의 요구 사항을 충족합니까?
반도체의 PSA 산소 발생기는 순도 95%± 3%의 산소를 일상적으로 생산할 수 있습니다. 매우 높은 산소 순도가 필요한 일부 프로세스의 경우 장비 매개 변수를 조정하여 산소 출력 순도는 95% - 99 범위 내에서 유연하게 제어 될 수 있으며, 9%, Semiconductor Lithography, Cleaning 및 Inxidation과 같은 코어 링크의 가스 순도에 대한 엄격한 요구 사항을 완전히 충족시킬 수 있습니다.

2. 장비는 얼마나 안정적이며, 반도체 생산 라인의 지속적인 작동을 보장 할 수 있습니까?
이 장비는 PLC 지능형 제어 시스템과 결합 된 이중 흡착 타워 교대 작업 모드를 채택하여 24- 시간을 중단적이고 안정적인 산소 공급을 달성합니다. 이 자동화 된 작동 모드는 수동 병 교체로 인한 가스 공급 중단을 피하고, 박막 증착 및 공기압에 민감한 에칭과 같은 공정에 신뢰할 수 있고 안정적인 가스 공급을 제공하며, 가스 공급 문제로 인한 생산 중단 위험을 효과적으로 줄입니다.

3. 전통적인 산소 공급 방법과 비교하여 사용 비용은 얼마입니까?
액체 산소 저장 탱크 또는 고압 가스 실린더와 비교할 때, PSA 산소 발생기는 산소 수송 및 저장 비용을 크게 절약하는 현장 산소 생산 모드를 채택합니다. 장비는 작은 지역을 차지하며 모듈 식으로 확장하여 현장 임대 비용을 줄일 수 있습니다. 장기적으로 비용은 기존의 산소 공급 방법보다 약 20% 낮아 운영 비용을 크게 절약합니다.

4. 장비의 유지 보수가 복잡합니까? 유지 보수주기는 얼마나 걸립니까?
이 장비는 식품 등급의 스테인레스 스틸과 자체 청소 분자 체를 사용하여 유지 보수가 쉽기 때문에 유지 보수 작업량이 크게 줄어 듭니다. 정상적인 상황에서 유지 보수주기는 3-5 년과 같은 길이이며, 우리는 전문 후 사후 팀이 장비를 제공하여 언제든지 기술 지원을 제공하여 장비 운영 중에 문제를 해결하는 데 도움이됩니다.

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